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Coauteurs
- Nigel D BrowningProfessor of Materials Science, University of LiverpoolAdresse e-mail validée de liverpool.ac.uk
- Alex RobinsonSenseAI Innovations Ltd., University of LiverpoolAdresse e-mail validée de liverpool.ac.uk
- Angus KirklandOxford UniversityAdresse e-mail validée de materials.ox.ac.uk
- Daniel NichollsUniversity of LiverpoolAdresse e-mail validée de liverpool.ac.uk
- Laurent JacquesProfessor, ISPGroup, INMA/ICTEAM, UCLouvain, BelgiumAdresse e-mail validée de uclouvain.be
- Valerio CambareriPrincipal Software Engineer, Sony Depthsensing Solutions NVAdresse e-mail validée de sony.com
- Christophe De VleeschouwerProfessor, ICTEAM, EPL, Université catholique de LouvainAdresse e-mail validée de uclouvain.be
- Kévin DegrauxSystem Engineer (R&D), Sony Depthsensing Solutions SAAdresse e-mail validée de sony.com
- José M. Bioucas DiasInstituto de Telecomunicações, Instituto Superior Técnico, Universidade de Lisboa, PortugalAdresse e-mail validée de lx.it.pt
- Roland FleckProfessorAdresse e-mail validée de kcl.ac.uk
- Zoë BroadUniversity of LiverpoolAdresse e-mail validée de liverpool.ac.uk
- Miaofang ChiCenter for Nanophase Materials Sciences, Oak Ridge National LabAdresse e-mail validée de ornl.gov
- Seyed Abolfazl GhasemzadehPhD Candidate, UCLouvainAdresse e-mail validée de uclouvain.be
- Gabriel van ZandyckeUCLouvainAdresse e-mail validée de uclouvain.be
- Adriana GonzálezImage Processing Engineer. PhD Graduate in Engineering SciencesAdresse e-mail validée de uclouvain.be
- Mohammad Ali akhaeeAssociate Professor of Electrical& Computer Eng., University of TehranAdresse e-mail validée de ut.ac.ir
- Ian MacLarenUniversity of Glasgow, School of Physics and AstronomyAdresse e-mail validée de glasgow.ac.uk
- Mounib BahriUniversity of LiverpoolAdresse e-mail validée de liverpool.ac.uk
- Maxime IstasseUCLouvain / ICTEAMAdresse e-mail validée de uclouvain.be
- Damien McGroutherApplications Specialist - EO, JEOL UK LtdAdresse e-mail validée de jeoluk.com
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Amirafshar Moshtaghpour
Staff Scientist at the Rosalind Franklin Institute
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