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Coauteurs
- Lars Hultman, Professor, PhDLinköping University, Department of Physics, IFMAdresse e-mail validée de ifm.liu.se
- Per O.Å. PerssonLinköping UniversityAdresse e-mail validée de liu.se
- Johanna RosenLinköping UniversityAdresse e-mail validée de liu.se
- Hans HögbergLektor Linköpings universitetAdresse e-mail validée de liu.se
- Arnaud le FebvrierThin Film Physics Group Department of Physics, Chemistry and Biology (IFM) Linköping UniversityAdresse e-mail validée de liu.se
- Qing HuangChinese Academy of ScienceAdresse e-mail validée de nimte.ac.cn
- Michel W. BarsoumDrexel UniversityAdresse e-mail validée de drexel.edu
- Joseph HalimIFM dept., Linköping University, SwedenAdresse e-mail validée de liu.se
- Biplab PaulDocent, Linköping University (Sweden)Adresse e-mail validée de liu.se
- Grzegorz (Greg) GreczynskiLinköping UniversityAdresse e-mail validée de liu.se
- Youbing LiSoochow UniversityAdresse e-mail validée de nimte.ac.cn
- Ke ChenNingbo Institute of Materials Technology and Engineering, Chinese Academy of SciencesAdresse e-mail validée de nimte.ac.cn
- Björn AllingAssociate professor in Thin Film Physics, Linköping University, SwedenAdresse e-mail validée de ifm.liu.se
- Rui ShuLinköping UniversityAdresse e-mail validée de liu.se
- Mian LiNingbo Institute of Materials Technology & Engineering, Chinese Academy of SciencesAdresse e-mail validée de nimte.ac.cn
- Jie ZhouLinkoping UniversityAdresse e-mail validée de liu.se
- Xian-Hu ZhaShenzhen University (深圳大学)Adresse e-mail validée de szu.edu.cn
- Justinas PalisaitisAssociate Professor, Linköping University, SwedenAdresse e-mail validée de liu.se
- Martin DahlqvistMaterials Design Division, Department of Physics, Chemistry, and Biology (IFMAdresse e-mail validée de liu.se
- Ngo Van NongProfessor, Head of Division, Center for Low-temperature Plasma Sciences, Nagoya UniversityAdresse e-mail validée de plasma.engg.nagoya-u.ac.jp